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“职责所在。”朱明月淡淡一笑，又拿起旁边的罐子道：“刚才的是正胶，这罐是反胶，总裁可以带回去试试效果。”
虽然光刻胶种类多，大致分为六种，不过40纳米以下芯片用的光刻胶一般都是ArF光刻胶，而它又区分正反胶。
何为光刻正反胶？
就比如说ArF光刻胶的正胶，它被紫外光照射后，照射区域的化学性质会变得容易溶解，因此经过曝光的区域会被移除，形成电路图案，未曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
至于ArF光刻胶的反胶，它被紫外光照射则截然相反，未曝光区域的化学性质变得容易溶解，因此未经曝光的区域会被移除，形成图案，经曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
光刻正反胶，它们分别对应了不同的光刻生产工艺，也是硅片曝光的必备。
“对了。”
朱明月在拿出光刻胶后，还不忘提一嘴道：“这款光刻胶阻抗是10的20次方，领先JSR株式会社、TOK东京应化5个次方。
“阻抗越高，就代表光刻胶纯度越高，纯度不足就会造成硅片污染，这款光刻胶总的来说就四个字，遥遥领先。”
“遥遥领先…”
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