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第一步先把AB拆开，得到A与B两个图案，然后将它们分别制作光掩膜版，紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A，再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B，最终得到所需要的AB组合图案。
八个字概括就是，精度不够，工序来凑。
“要花两倍的流片费用，高总，14纳米的……”
陈星刚想问问流片费多少，却发现高永明整个人止不住颤抖，瞳孔微缩的同时，充满了恍然大悟与激动之色。
他身旁的两位光刻工程师，也在喃喃低语。
“多重曝光…”
“既然单次精度不够，为何不分两次曝光呢？”
“好天才的想法…”
三人似乎进入了顿悟状态，高永明本身就是干这方面的，同时也是光刻领域的教授，他自然不会听不懂林天在说什么，现在他脑海只有一段话：“多重曝光技术，DUV光刻机的春天终于要来了吗？”
一阴一阳的图案互补，理论上是绝对可以的，而且还能一分为四，虽然工序更复杂，还别说，7纳米芯片真能造！
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