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林天前面步骤完全正确，没有半点外行的影子，而且过程行云流水，丝毫没有半点拖沓，像是一位经历过上万次光掩膜版制作的老手，一切都水到渠成。
这也让高永明、唐鑫宇，以及一众围观的光刻工程师们打心底佩服，懂光刻机，懂掩膜版，这简直就是全能天才啊！
在等待第一次流片的蚀刻空隙，龙芯国际的副首席工程师唐鑫宇搓了搓手，再也忍不住请教了：“打扰一下林工，驻波效应你有什么好办法解决吗？”
驻波效应，在光刻过程中，会有一部分光被反射回来，这个反射的光和原来的入射光频率相同，会相互干涉，导致光阻层中光强度的分布不均，呈现出交替的亮暗区域，导致流片失败。
如何有效削减驻波效应，一直是他们头疼的问题。
林天移开锁定在设备上的目光，淡淡说道：“使用TARC，BARC等抗反射层材料，或者进行加热烘烤，用高温促进光敏剂的扩散，一定程度上弥补了光强分布不均的问题，在显影过程中可以得到更均匀的图案剖面。”
声音不大，却传遍实验室。
龙芯国际的工程师没有迟疑，立马掏出记事本记录。
别看这位“林工”年轻，他在光刻领域的成就与造诣，早已经远超在场所有人。
然而。
